RTP快速退火爐可用于砷化鎵、硅以及其他半導(dǎo)體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設(shè)備(RTP)具有快速升降溫、慢速升降溫、和長(zhǎng)工作時(shí)間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。

　　RTP快速退火爐用于半導(dǎo)體器件研發(fā)及生產(chǎn)等領(lǐng)域，可滿足離子注入后的快速退火、歐姆接觸快速合金、硅化物合金退火，氧化物生長(zhǎng)以及銅銦鎵硒光伏應(yīng)用中的硒沉積等快速熱處理工藝場(chǎng)合。

　　RTP快速退火爐應(yīng)用領(lǐng)域：

　　1.離子注入/接觸退火;

　　2.快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN);

　　3.RTP快速退火爐可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用;

　　4.SiAu, SiAl, SiMo合金化;

　　5.低介電材料;晶體化，致密化;

　　6.太陽(yáng)能電池片鍵合;

　　RTP快速退火爐結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：

　　爐膛采用進(jìn)口多晶纖維真空吸附制成，采用進(jìn)口紅外線加熱管加熱，使用壽命可達(dá)5000小時(shí)，升溫速度快，zui高溫度可達(dá)1050℃。

　　爐管可自由移動(dòng)，且密封法蘭之間用搭扣壓緊連接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人為操作導(dǎo)致漏氣的可能;減少了因安裝法蘭而造成加熱管損壞的可能;當(dāng)爐管移出爐膛時(shí)冷確風(fēng)扇啟動(dòng)，可實(shí)現(xiàn)試樣的迅速降溫，滿足材料驟冷驟熱的實(shí)驗(yàn)要求;

　　RTP快速退火爐預(yù)留了真空、氣路快速接口，可配合我司真空系統(tǒng)、混氣系統(tǒng)使用;預(yù)留了485轉(zhuǎn)換接口，可通過(guò)我司軟件，與計(jì)算機(jī)互聯(lián)，可實(shí)現(xiàn)單臺(tái)或者多臺(tái)電爐的遠(yuǎn)程控制、實(shí)時(shí)追蹤、歷史記錄、輸出報(bào)表等功能;

　　RTP快速退火爐設(shè)置超溫報(bào)警并斷電，漏電保護(hù)，操作安全可靠。